顾青笑着摇了摇头，与赵教授握手之后，看了一眼他们刚刚聚精会神观察的设备显示器。
“DUV光源是准分子激光，而光刻机用激光激发等离子来发射EUV光子是有原因的。
&光刻机的波长能达到193纳米，而EUV光源的波长则为13.5纳米。
相信赵教授您也知道，二者之间的差距十分明显，波长越短，所能实现的分辨率越高。这让EUV光刻机能够承担高精度芯片的生产任务。
所以DUV虽然能做48NM，但是难度太大了，必须换EUV才行。”
赵教授没有说话，他身侧的一位年轻研发人却是说道：“EUV光源都被国外公司包圆了，哪里有那么容易给我们EUV光源用。”
“德国莱卡的镜头、通快的光源、德美日韩的专利技术，是的确被包圆了。
可咱们又不是不可以直接从源头开始换。”顾青说道。
年轻的研发人员冷哼了一声：“说的这么简单，但是从新研发光源，没有十几年的理论推导和基础研发，哪里那么容易。”
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